Intel高級副總裁Murthy Renduchintala日前參加了JP摩根第46屆全球技術、媒體及通訊會議，分析師在這次會議上諮詢了很多有關Intel 10nm工藝延期的問題，他首先解釋了Intel 10nm工藝為什麼這麼難纏的問題。
早在2014年Intel首次定義10nm工藝時，他們提出了非常苛刻的目標—相比14nm工藝，10nm工藝的換算因數要達到2.7倍（scaling factor，衡量工藝先進與否的一個重要指標就是縮小到上一代的多少倍），而在22nm工藝升級到14nm時，新工藝的換算因素只是2.4倍，所以在10nm節點上Intel的團隊具有非常宏偉的雄心壯志。
要想實現這樣的目標，就需要很多的創新，因此Intel在這個過程中遇到了更多的挑戰，Renduchintala強調他們遇到的問題主要是良率上的，並非根本性問題，Intel知道如何解決問題，目前正在集中精力解決這些問題。
與此同時，他們也發現了14nm工藝還有未開發的潛力：Renduchintala表示從第一代14nm工藝到最新一代14nm工藝，其性能已經提升了70%，這也給了Intel公司更多空間去解決10nm工藝的良率問題。
至於未來的情況，Renduchintala強調他們還會不斷努力解決10nm工藝的良率問題，也對14nm處理器路線圖感到滿意，在未來12-18個月還會讓它們繼續保持領先。
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