ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的廠商，台積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來的3nm、2nm皆需仰賴EUV光刻機，單台售價超過1億美元，成本極高。
ASML EUV光刻機目前使用的仍是第一代，EUV光源波長在13.5nm左右，物鏡的NA數值孔徑是0.33，開發了一系列型號。其中最早量產出廠的是NXE:3400B，產能有限，一小時生產晶圓是125PWH，目前的出貨主力是NXE:3400C，產能提升至135WPH，今年底還有NXE:3600D系列出貨，產能再進一步提升至160WPH，但價格亦會提高至1.45億美元。
現在第一代的EUV光刻機NA指標太低，第二代EUV光刻機會是NXE:5000系列，其物鏡的NA將提升至0.55，進一步提高光刻精度，半導體製程突破1nm即要靠下一代光刻機了。
然而，NA 0.55的第二代EUV光刻機沒那麼容易，原本預計最快2023年上市，最新傳聞指稱NXE:5000系列跳票，且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能上市了。
不僅時間延期，第二代EUV光刻機的價格亦會大漲，預期將達到3億美元，是目前EUV光刻機的2-3倍，此即意味著未來的晶片製程成本極其昂貴極，哪怕真能做到1nm製程，高昂的成本可能亦會令大多數公司卻步。
若真如此發展下去，會不會1nm製程的大客戶就剩蘋果了？！
沒有留言:
張貼留言