10nm以下的先進製程工藝，目前只有Intel、台積電和三星可以量產。
日前，Digitimes 整理了三大晶圓廠在10nm、7nm、5nm、3nm、2nm的技術指標演進對比圖，這裡使用的是電晶體密度（每平方公釐的電晶體數量）。
↑圖源：DIGITIMES
10nm時代，Intel 做到了1.06億/mm² 的密度，是台積電和三星的兩倍。
7nm時代，Intel 預估可以做到1.8億/mm²，台積電9700萬/mm²、三星9500萬顆/mm²。
5nm時代，Intel預估可以做到3億/mm²，台積電1.73億/ mm²、三星1.27億/ mm²。
這樣來看的話，Intel的10nm相當於台積電及三星的7nm、Intel 7nm相當於台積電及三星5nm的說法有一定道理。
不過，從5nm可以明顯看出，在電晶體密度上，三星已經明顯落後。
放眼3nm，台積電大概可以做到2.9億/mm²，三星可以做到1.7億/mm²，三星的指標甚至連 Intel 7nm都不如。
消息/圖片來源：快科技
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